掩膜版Mask LCVD Repair LD14
产品概要
掩膜版LCVD修复设备主要是使用激光诱导化学气相沉积（LCVD）技术来修复掩膜版上的缺陷。SEMISHARE LD14系列，沉积厚度范围广，修补精度高，微米级激光精度能够有效应对极小间距掩膜版，能为高价值掩膜版mask缺陷提供高精度、低成本的修复解决方案，更大程度的节约企业的生产运营成本。
基本信息
| 产品型号 | LD14 | 工作环境 | 封闭式 |
| 电力需求 | AC 220V ±5% 50Hz | 操控方式 | 全自动 |
| 产品尺寸 | 可定制 | 设备重量 | 可定制 |
应用方向
可以用来填补掩膜版上的缺失部分或修复图案。这种技术通常用于修复线路开路和短路等问题。
技术特点
掩膜版 Mask LCVD Repair LD14
●对不同厚度且跨度较大的产品，更换产品时，无需手动调整，设备能够自动适应沉积头高度调整。
●气相沉积管理控制系统，能够定量蒸发沉积，长期使用不会因为原料消耗，蒸发速率下降引起沉积时间变长，从而满足客户对工艺稳定性的追求。
●废气回收处理，高达数十层的高温滤网，能够充分拦截分解废气中的有害成分，并经冷却后汇入至厂内废气管路。
●能够根据客户需求，提供定制化产品。
