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产品概况 功能结构 规格参数 资料下载

掩膜版Mask Cut Repair L14

产品概要

L14系列掩膜版激光切割修复设备主要是对掩膜版使用过程中的缺陷进行修复,设备以SEMISHARE领先的机器视觉系统为核心,能为高价值掩膜版mask缺陷提供高精度、低成本的修复解决方案,更大程度的节约企业的生产运营成本。

基本信息

产品型号 L14 工作环境 开放式
电力需求 AC 220V ±5% 50Hz 操控方式 手动
产品尺寸 可定制 设备重量 可定制

应用方向

需要精确切割或去除特定材料层的应用场景

技术特点

掩膜版Mask Cut Repair


●能够处理包括铬、硅、氮化硅、石英、EUV材料、外来颗粒和顽固未知颗粒等各种材料的修复;
●能够在不影响掩膜版其他部分的情况下,精确地去除或修复缺陷区域;
●能够根据客户需求,提供定制化产品。

掩膜版Mask Cut Repair L14

样品台

大小

500mm*320mm

样品台X-Y行程

样品台X-Y行程8*8英寸

样品固定方式

自然放置

光源

面背光、上光源

显微镜特性

行程

镜体固定,Z轴行程50mm

CCD像素

50W(模拟)/200W(数字)/500W(数字)

目镜

10X目镜

物镜

配置物镜:5X,10X,20X,50X(选配),100X(选配)

物镜转盘

手动鼻轮

激光特性

波长

波长可选:1064/532/355/266nm波段

能量

输出功率2.2mJ/pulse

微加工能力

可加工材质:Cr/Al/ITO/Ni/TFT/RGB/Poly Silicon/Mo/SiN/CF内杂质等

加工精度

最小可加工精度1*1μm(配置100X镜头时)

冷却方式

可选择风冷激光或水冷激光


暂无数据

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